蘋果今年下半年推出新款iPad及iPhone 12產品線，采用自家設計的A14系列處理器，其中，iPad Air及iPhone 12全系列都采用A14應用處理器，至于即將在11月發表的Arm架構Macbook則會採用自行研發的A14X處理器。蘋果A14以及A14X均已在臺積電采用5奈米制程量產。

　　晶圓代工龍頭臺積電及微影設備大廠ASML于上周法人說明會透露了更多3奈米細節。臺積電3奈米采用鰭式場效電晶體(FinFET)架構及極紫外光(EUV)微影技術，邏輯密度與5奈米相較將大幅增加70%，且EUV光罩層數將倍增且超過20層。因此，臺積電積極采購EUV曝光機設備，未來三~五年仍將是擁有全球最大EUV產能的半導體廠，包括家登及崇越等供應商可望受惠。

　　臺積電EUV微影技術已進入量產且制程涵蓋7+奈米、6奈米、5奈米。據設備業者消息，臺積電7+奈米采用EUV光罩層最多達四層，超微新一代Zen 3架構處理器預期是采用該制程量產。6奈米已在第四季進入量產，EUV光罩層數較7+奈米增加一層，包括聯發科、輝達、英特爾等大廠都將採用6奈米生產新一代產品。

　　臺積電下半年開始量產5奈米制程，主要為蘋果量產A14及A14X處理器，包括超微、高通、輝達、英特爾、博通、邁威爾等都會在明年之后導入5奈米制程量產新一代產品。5奈米EUV光罩層數最多可達14層，所以Fab 18廠第一期至第三期已建置龐大EUV曝光機臺設備因應強勁需求，臺積電明年將推出5奈米加強版N5P制程并導入量產，后年將推出5奈米優化后的4奈米制程，設備業者預期N5P及4奈米的EUV光罩層數會較5奈米增加。

　　臺積電在日前的法說會中宣布，3奈米研發進度符合預期且會是另一個重大制程節點，與5奈米制程相較，3奈米的邏輯密度可增加70%，在同一功耗下可提升15%的運算效能，在同一運算效能下可減少30%功耗。3奈米制程采用的EUV光罩層數首度突破20層，業界預估最多可達24層。

　　ASML執行長Peter Wennink在日前法說會中指出，5奈米邏輯制程采用的EUV光罩層數將超過10層，3奈米制程采用的EUV光罩層數會超過20層，隨著制程微縮EUV光罩層數會明顯增加，并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

　　臺積電5奈米及3奈米的EUV光罩層數倍數增加，提供EUV光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大，今、明兩年產能均已被大客戶預訂一空。至于EUV產能大幅提高，代理EUV光阻液的崇越接單暢旺，訂單同樣排到明年下半年。